Noch mal Halbleiter: Isolierschicht auf der Metallisierung

Hallo,

ist es ok, für eine thematische ähnliche aber doch andere Frage einen neuen Thread aufzumachen? Ich hoffe.

Ich habe jetzt einen Chip entkapselt, bei dem sich interessanterweise die Metallisierung nicht abgelöst hat, was ich gar nicht fassen kann.

Es handelt sich von der Farbe her ziemlich eindeutig um Aluminium, würde ich sagen.

An den Stellen, wo ich die Bonddrähte weggeätzt habe, habe ich aber eine interessante Beobachtung gemacht: Hier löst sich die Metallisierung ganz langsam auf, bildlich könnte man ?Leiterbahnfraß? sagen, und es kommt zu ziiemlich komischen Strömungseffekten.

Ich vermute daher, dass auf den Leiterbahnen noch eine Schicht oben drauf ist, natürlich an den Pads für die Bonddrähte nicht. An diesen Stellen ist dann die Säure unter die Isolierschicht gekrochen.

*** Die Frage: *** Ich tue mir etwas schwer mit einem educated guess, worum es sich am wahrscheinlichsten handeln dürfte. Soweit ich das recherchieren konnte müsste es sich um SiN oder SiO2 handeln.

Ich bitte um Hinweise! Worum handelt es sich am Wahrscheinlichsten?

Ich würde halt gern relativ zielgerichtet weiterexperimentieren um Kollateralschäden und Aufwand gering zu halten.

Vielen Dank

Timm

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Timm Reinisch
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Am 09.05.2013 19:56, schrieb Timm Reinisch:

Das kann man so nicht sagen, es könnte z.B. auch ein Polyimid sein...

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Eric Brücklmeier

Wichtiger Hinweis, habe ich vergessen:

Das Entkapseln erfolgte durch Behandlung für 24h mit konzentrierter Schwefelsäure bei

200 °C. Ich glaube nicht, dass Polyimid das überleben würde!

Vlg und besten Dank

Timm

Reply to
Timm Reinisch

Die Säure wird aber doch nicht 24h auf den Die selbst eingewirkt haben?

Üblich sind auch CVD Nitride, ONO oder andere Gläser - das kann alles mögliche sein. Vielleicht kann man mit einem Lösungsmittel Imid ausschließen?
Reply to
Eric Brücklmeier

Definitiv. Mußt du sowieso, weil der Kugelfisch^Wgriller deinen Original-Thread mittlerweile gekapert hat und für seine grenzdebile US of A Propaganda mißbraucht :(

Mit an Sicherheit grenzender Wahrscheinlichkeit SiO2

Das ist die am weitesten billigste und verbreitetste Passivierung.

XL

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Axel Schwenke

Timm Reinisch:

Der Photolack nach dem Aluminiumabscheiden wird idR nicht vollständig entfernt. Unlackiertes Si3N4 oder SiO2 sollte den HF-Dip nicht überstehen.

Falk D.

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Falk Dµeßßert

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